A. Material d'aïllament de baixa tensió
1.1 Fórmula
Resina epoxi E-44 100
Diluent Dibromofenil glicidil èter 20
Triòxid d’antimoni ignífug 10
Pols de sílice activa 400 malla 200
Agent de curació 593 25
Dietilenetriamina 3
1.2 Procés de producció
1.2.1 Pols de silici sec amb un contingut d'humitat inferior al 0,2%
1.2.2 Afegiu resina epoxi, diluent, ignífug i pols de silici al reactor en l'ordre següent
1.2.3 Augmenteu la temperatura fins a 100 ℃, desgasifiqueu la barreja amb un buit de -0,1 MPa durant 30 minuts fins a obtenir uniformitat
1.2.4 Refredeu-ho per sota de 50 ° C, afegiu un agent curador, mantingueu la temperatura no més de 50 ° C, degaseu el grau de buit -0,1 MPa, el temps de barreja no superi els 30 minuts i, a continuació, entreu en el procés de fosa.
B. Materials d’aïllament d’alta i baixa tensió
2.1 Formulació
Resina epoxi E-44 100
Diluent Dibromofenil glicidil èter 20
Triòxid d’antimoni ignífug 10
Pols de sílice activa 400 malla 300
Agent de curació S101 95
Accelerador DMP-30 1.5
2.2 Procés de producció
2.2.1 Pols de silici sec amb un contingut d'humitat inferior al 0,2%
2.2.2 Feu un component de dos components en l'ordre següent
Resina epoxi component, accelerador, ignífug, pols de silici 200
Agent de curat dels components B, més prim, pols de silici 100
2.2.3 El component A s’escalfa a 80-100 ℃ i la mescla es desgasifica amb un buit de -0,1 MPa durant 30 minuts fins a uniformitat
2.2.4 La temperatura del component B s’eleva a 50 ℃ i la mescla es desgasifica amb un buit de -0,1 MPa durant 30 minuts fins a la uniformitat
2.2.5
Refredar per sota de 50 ℃, afegir el component A al component B, mantenir la temperatura no superior a 50 ℃, degasar el grau de buit -0,1Mpa, temps de mescla 30min, es pot introduir l’abocament.
